库比蒂诺，加利福尼亚州。— 2019年2月20日— Xpeedic Technology，Inc.今天宣布，其3D全波电磁（EM）仿真工具IRIS已获得GLOBALFOUNDRIES的12nm领先性能（12LP）工艺技术的认证。这项资质使设计人员能够使用GF的12LP FinFET半导体制造工艺中可用的经过认证的IRIS工艺文件来放心地运行IRIS。
GF的12LP技术与14nm FinFET解决方案相比，逻辑电路密度提高了10％，性能提高了15％以上，满足了从人工智能，虚拟现实到高仿真技术等最苛刻的计算密集型应用的处理需求。终端智能手机和网络基础设施。
GF Design Enablement副总裁Richard Trihy说：“准确的EM仿真工具对于我们的客户计算密集型应用程序的成功首次设计至关重要。” “ Xpeedic EM工具的资格为设计人员提供了针对先进工艺技术的可预测的EM仿真结果。”
Xpeedic Technology首席执行官冯玲博士说：“我们非常高兴IRIS能够与测量实现出色的相关性，从而符合GF的12LP工艺的要求，作为GF FDXcelerator和RFwave成员，Xpeedic将继续与GF合作各种工艺技术，以帮助我们共同的客户提供创新的解决方案和服务。”
GF的电磁认证计划可确保通过该计划认证的所有EM工具均符合GF的最高质量标准。凭借此资格，IC设计人员可以选择他们首选的EM仿真工具及其相应的工艺文件，以确保其设计信心并缩短产品上市时间。