与时俱进,引领未来!东方晶源计算光刻PanGen V5.0强势来袭 winniewei -- 周三, 12/04/2024 - 17:02 OPC(Optical Proximity Correction)即光学邻近校正,是一种光刻分辨率增强技术,通过对掩膜版上图形的修正来弥补因衍射受限成像而导致的图像失真,进而提高芯片制造过程中的良率。
国内首款!华中大团队成功研发计算光刻EDA软件 winniewei -- 周四, 12/01/2022 - 09:51 近日,华中科技大学机械学院刘世元教授团队成功研发出我国首款完全自主可控的OPC软件,并已在相关企业实现成果转化和产业化,填补了国内空白。