![winniewei的头像 winniewei的头像](https://eda.eetrend.com/files/styles/picture200/public/pictures/picture-709-1583200707.jpg?itok=i2ZF6LPv)
随着工作频率日益提高,寄生参数的提取显得尤为重要,在RFIC电路设计中,必须通过电磁场(EM)仿真考虑无源网络的互联、互耦效应以及RF多次谐波影响。基于Cadence Virtuoso的RFIC设计流程在业内被设计者所广泛使用,但是由于缺乏内置的全波电磁场仿真工具,导致RFIC设计者在Virtuoso设计环境和外部电磁场仿真工具之间频繁地交换版图数据,不仅繁琐而且容易出错。IRIS与Virtuoso的无缝集成,不仅使设计人员能够停留在Virtuoso设计环境中执行电磁场仿真,而且还通过反标、综合和优化等功能实现设计验证前后端的完美融合,极大地帮助IC设计人员减少设计周期并实现一次硅片仿真成功。
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